TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可作為直流濺射電源的替代方案，無(wú)需改動(dòng)即可用于現(xiàn)有磁控系統(tǒng)。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質(zhì)鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應(yīng)用的首要之選。

輕松適配現(xiàn)有陰極系統(tǒng)和工藝條件實(shí)現(xiàn)最佳設(shè)備集成。

作為*的脈沖式 PVD 濺射工藝，HiPIMS 可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質(zhì)鍍膜。

亦可用于直流電模式，無(wú)需額外的直流發(fā)生器。

高峰值功率產(chǎn)生高度離子化的等離子體并實(shí)現(xiàn)高離子流量。由此可取得非常連貫且致密的薄膜并避免微滴。若與極化基板配置相結(jié)合，則 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可以在刻蝕、溝填應(yīng)用中提供出色結(jié)果。

可調(diào)脈沖寬度與頻率、擴(kuò)展性能參數(shù)和具有極少電弧能量的全數(shù)字化電弧管理實(shí)現(xiàn)無(wú)液滴濺射、低限度的薄膜缺陷并保證較高的涂層質(zhì)量和沉積速率。

憑借高能量與高達(dá) 2 kV 的電壓，可以制造出高質(zhì)量的鍍膜——無(wú)論是在小型實(shí)驗(yàn)室里還是在大型工業(yè)設(shè)施中。可達(dá) 5 ms 的脈沖與最高 10 kHz 的頻率提高了沉積速率，因此有助于降低總體經(jīng)營(yíng)成本。

憑借可調(diào)頻率的功率調(diào)節(jié)器確保沉積參數(shù)在高要求的反應(yīng)工藝中也能保持恒定。因此，工藝得以在幾小時(shí)甚至幾天內(nèi)保持穩(wěn)定，無(wú)需人為介入。

TruPlasma Highpulse 系列發(fā)生器是一個(gè)緊湊型單元。其無(wú)需外部直流電源，采用全水冷設(shè)計(jì)，因此得以在潔凈室內(nèi)工作。