Huttinger 等離子射頻電源

Huttinger等離子體射頻電源TruPlasma Match1000提供解決方案

Huttinger等離子體射頻電源TruPlasma Match1000提供技術支持服務

　　高頻電流:測量用于識別等離子體異常的高精度AC電流測量裝置，于工藝流程就近安放在阻抗匹配器內，緊挨腔室。

　　電弧管理:是適用于等離子體工藝流程控制的理想模塊。有針對性的電弧識別確保生產效率，同時保護產品與設備。

　　接口：Analog/Digital、PROFIBUS和EtherCAT作為可選接口提供。標配EtherNet、SystemPort和RS232/485。

　　等離子體工藝就像一個復雜可變的負載，必須通過發生器為其不斷供電。這項工作由有源匹配網絡（所謂的阻抗匹配器）來完成，確保隨時匹配50Ω的最佳阻抗。由此形成協調的系統解決方案——通快RF系統。通過不同接口（如EtherCAT）可十分輕松地將發生器和阻抗匹配器集成至現有工藝環境之中，并通過發生器與阻抗匹配器的智能連接（即所謂的SystemPort）形成經優化的系統解決方案。

　　Huttinger霍廷格高頻電源PFG 1000

　　霍廷格huttinger DC3030直流磁控濺射電源

　　憑借主振蕩器可穩定和優化關鍵的同步等離子體過程。集成式數字頻率與相位合成器確保高頻率與相位穩定性，可以實現按照極小的步幅調整相位?？蛇x擇用于13.56 MHz頻率以及各種頻率組合的不同規格主振蕩器。

　　復雜的圖形表示實現全面管理所有相關工藝參數。負載與阻抗匹配器阻抗通過史密期圓圖，含頻率與相位在內的高頻輸入與輸出功率借助實時示波器進行可視化。